解决方案
一。针对大风量低浓度VOC采用转轮浓缩+RTO处理工艺，去除率达到85-99%；
二。去除原理：浓缩转轮分处理区，脱附再生区，冷却区，转轮在各个区内，连续运转，VOC废气经过前置过滤器送到浓缩转轮处理前，在处理区被吸附剂除去，在再生区被高温脱附，冷区区的空气再加热作为再生空气使用。
查看更多
解决方案
氨氮处理系统通过将氨氮吹脱和吸收塔净化等多项技术组合起来，处理不同浓度的氨氮废水，可以将10000mg/L以上的氨氮废水处理到排放要求。 处理后的氨氮浓度在15mg/L以下。是一种能够兼顾流程简单、投资省、技术成熟、控制方便以及无二次污染等特点的氨氮处理系统。传统氨氮吹脱出来的氨气随空气进入大气，仍然容易引起二次污染，我公司在氨氮吹脱塔后又设置了吸收塔，从而使排向大气的空气为净化后的气体，无污染。
设计原理说明 ：氨氮在废水中主要以铵离子（NH4+）和游离氨（NH3）状态存在，其平衡关系如下所示： NH3+H2O—NH4+ +OH- 这个关系受pH值的影响，当pH值高时，平衡向左移动，游离氨的比例增大。常温时，当pH值为7左右时氨氮大多数以铵离子状态存在，而pH为11左右时，游离氨大致占98%，游离氨易于从水中逸出，如加以曝气的话，则可以促使氨从水中逸出
查看更多
解决方案
在湿式电除尘器中，水雾使粉尘凝并，并与粉尘在电场中一起荷电，一起被收集，收集到极板上的水雾形成水膜，水膜使极板清灰，保持极板洁净。同时由于烟气温度降低及含湿量增高，粉尘比电阻大幅度下降，因此湿式电除尘器的工作状态非常稳定。
WESP技术工作原理： 在除雾器的阳极板(筒)和阴极线之间施加数万伏直流高压电，在强电场的作用下，阴阳两极间的气体发生充分电离，使得除雾器空间充满带正、负电荷的离子；随工艺气流进人除雾器内的尘(雾)粒子与这些正、负离子相碰撞而荷电，带电尘(雾)粒子由于受到高压静电场库仑力的作用，分别向阴、阳极运动；到达两极后，将各自所带的电荷释放掉，尘(雾)粒本身则由于其固有的黏性而附着在阳极板(筒)和阴极线上，然后通过流体冲洗的方法清除。
查看更多
解决方案
电子半导体行业中酸碱性废气的来源为化学清洗站，具有刺激性及有害人体，故酸碱性废气的处理方法一般是以湿式洗涤塔做水处理后再排入大气。
洗涤塔利用床体或湿润的表面可以去除0.1微米以上的粒子。其气体与液体的接触方式有交叉（垂直交叉）流式、同向流式及逆向流式三种，而水流的设计上，有喷嘴式，喷雾式，颈式及拉西环式等四种。
半导体企业生产过程中产生的废气均可处理： ➢ 集成电路生产企业：主要包括数字集成电路板及模拟集成电路板生产企业。 ➢ 分立器件生产企业：主要包括晶体二极管、三极管，整流二极管，功率二极管、化合物二极管等生产制造企业。 ➢ 光电组件生产企业：包括LED、OLED、LCD、光伏太阳能等的生产制造企业。
由于半导体工艺对操作室清洁度要求极高，通常使用风机抽取工艺过程中挥发的各类废气，因此半导体行业废气排放具有排气量大、排放浓度小的特点。废气排放也以挥发为主。 与半导体制造工艺相比，半导体封装工艺产生的废气较为简单，主要是酸性气体、环氧树脂及粉尘。酸性废气主要产生于电镀等工艺；烘烤废气则产生于晶粒粘贴、封胶后烘烤过程；划片机在晶片切割过程中，产生含微量矽尘的废气。
查看更多
—— 助力绿色发展 智造清新未来
中企跨境-全域组件 2.0
制作前进入CSS配置样式
右侧在线客服样式 1,2,3 1
图片alt标题设置： 苏州艾特斯环保设备有限公司
表单验证提示文本： Content cannot be empty!
循环体没有内容时： Sorry,no matching items were found.
CSS / JS 文件放置地